发明名称 |
半导体记忆体之电容下电极的制备方法 |
摘要 |
一种半导体记忆体之电容下电极的制备方法,首先形成一第一堆叠结构于一半导体基板,而该半导体基板具有数个导电插塞。而后形成一第二堆叠结构于该第一堆叠结构之上面,接着形成数个由该第二堆叠结构之顶面延伸至该第一堆叠结构之底面的穿孔,该些穿孔暴露该些导电插塞,最后于该些穿孔之中依序设置导电金属板以及实心的导电柱体,导电金属板接触导电插塞及导电柱体,而每一导电柱体即为电容下电极;藉此,增加电容下电极的支撑应力,进而降低将来在电容下电极外部设置电容介电层以及电容上电极的困难度。 |
申请公布号 |
TWI389260 |
申请公布日期 |
2013.03.11 |
申请号 |
TW098133199 |
申请日期 |
2009.09.30 |
申请人 |
华亚科技股份有限公司 桃园县龟山乡复兴三路667号 |
发明人 |
黄信斌;张仲逸;王荣鸿 |
分类号 |
H01L21/8242;H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/8242 |
代理机构 |
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代理人 |
庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼 |
主权项 |
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地址 |
桃园县龟山乡复兴三路667号 |