发明名称 电容器、电介质结构及形成电介质结构之方法
摘要 一些实施例包括电介质结构。该等结构包括彼此直接抵靠之第一部分及第二部分。该第一部分可含有一第一相与一第二相之均质混合物。该第一相可具有一大于或等于25之电介质常数,且该第二相可具有一小于或等于20之电介质常数。该第二部分可整体为一具有一大于或等于25之电介质常数的单一组合物。一些实施例包括含有上述类型之电介质结构的电组件,诸如,电容器及电晶体。一些实施例包括形成电介质结构之方法,且一些实施例包括形成电组件之方法。
申请公布号 TWI389207 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW098132349 申请日期 2009.09.24
申请人 美光科技公司 美国 发明人 洛克来 诺尔;卡森 克里斯M;彼得森 大卫;杨库宇;维黛安那森 普雷文;巴特 维许瓦那斯
分类号 H01L21/314;H01L27/04;H01L21/8242;H01L27/108 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国
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