发明名称 |
电容器、电介质结构及形成电介质结构之方法 |
摘要 |
一些实施例包括电介质结构。该等结构包括彼此直接抵靠之第一部分及第二部分。该第一部分可含有一第一相与一第二相之均质混合物。该第一相可具有一大于或等于25之电介质常数,且该第二相可具有一小于或等于20之电介质常数。该第二部分可整体为一具有一大于或等于25之电介质常数的单一组合物。一些实施例包括含有上述类型之电介质结构的电组件,诸如,电容器及电晶体。一些实施例包括形成电介质结构之方法,且一些实施例包括形成电组件之方法。 |
申请公布号 |
TWI389207 |
申请公布日期 |
2013.03.11 |
申请号 |
TW098132349 |
申请日期 |
2009.09.24 |
申请人 |
美光科技公司 美国 |
发明人 |
洛克来 诺尔;卡森 克里斯M;彼得森 大卫;杨库宇;维黛安那森 普雷文;巴特 维许瓦那斯 |
分类号 |
H01L21/314;H01L27/04;H01L21/8242;H01L27/108 |
主分类号 |
H01L21/314 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |