| 摘要 |
本发明之防护薄膜组件使用SOI基板，并从单一基板制作出由单晶矽膜所作成的防护薄膜11与支持该防护薄膜的基底基板12，在基底基板12上设置开口部，若防护薄膜组件使用于光掩模上时的曝光区域的面积为100%，让该开口部占曝光区域面积的60%(开口比)以上，同时在基底基板的非曝光区域上设置补强框12a。藉由从单一基板制作出防护薄膜11与支持该防护薄膜的基底基板12(一体化构造)以及在基底基板上设置补强框，而获得强度增加的效果。又，以自属于{100}面群以及{111}面群的其中任一个晶格面倾斜3~5°的结晶面作为单晶矽膜的主面。 |
