| 摘要 |
本发明提供一种在使用ArF准分子雷射光作为曝光光源时可适当地使用，确保关于光阻外形、敏感度、解析度、及线边缘粗度之优良性能，而且不发生图案瓦解与显影缺陷之正型光阻组成物，及一种使用此组成物之图案形成方法，其为一种包括以下之正型光阻组成物：(A)一种在以光化射线或放射线照射时可产生酸之化合物，(B)一种具有脂环烃结构之树脂，其在酸作用下分解而增加在硷中溶解度，及(C)一种具有一或两个选自羟基与其中羟基之氢原子经有机基取代之基的基之链化合物，其中链化合物在大气压力下在一般温度为固体，及一种使用此组成物之图案形成方法。 |
