发明名称 处理基板之装置及处理基板之方法
摘要 一种用于处理基板之装置,包括:一基板载具、一施加化学品单元、以及一显影单元,其中基板载具用于传送该基板,施加化学品单元用于施加化学品于基板,而显影单元用于显影基板。
申请公布号 TWI389195 申请公布日期 2013.03.11
申请号 TW097148157 申请日期 2004.09.15
申请人 金振有限公司 萨摩亚 发明人 城户秀作
分类号 H01L21/306;H01L21/08 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址 萨摩亚