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发明名称
处理基板之装置及处理基板之方法
摘要
一种用于处理基板之装置,包括:一基板载具、一施加化学品单元、以及一显影单元,其中基板载具用于传送该基板,施加化学品单元用于施加化学品于基板,而显影单元用于显影基板。
申请公布号
TWI389195
申请公布日期
2013.03.11
申请号
TW097148157
申请日期
2004.09.15
申请人
金振有限公司 萨摩亚
发明人
城户秀作
分类号
H01L21/306;H01L21/08
主分类号
H01L21/306
代理机构
代理人
洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项
地址
萨摩亚
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