| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé de photolithographie, comprenant les étapes suivantes : S1) déposer, sur la surface supérieure d'une plaquette, une résine à amplification chimique ; S2) exposer la résine à un rayonnement de sensibilisation au travers d'un masque, de façon à générer des composés acides dans les régions exposées ; S3) chauffer la résine, de façon à faire réagir les composés acides avec des groupements inhibiteurs de dissolution ; et S5) développer la résine ; et caractérisé en ce qu'il comprend, après l'étape S3, une étape de neutralisation, S4, des composés acides n'ayant pas réagi à l'étape S3.</p> |
