| 发明名称 |
PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20130023220(A) |
申请公布日期 |
2013.03.07 |
| 申请号 |
KR20127028202 |
申请日期 |
2011.03.30 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
YONEZAWA RYOTA;TAKAHASHI TETSURO;OSAKI YOSHINORI;SUZUKI KOUKI;SAITO TOMOHIRO;YAMASHITA JUN;SATO YOSHIHIRO;SHIOZAWA TOSHIHIKO;YAMAZAKI KOICHI;FURUKI KAZUHIRO |
| 分类号 |
H01L21/3065;C23C16/44;C23C16/50 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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