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Bei der beanspruchten Sensoranordnung ist die dem Plasmaätz-, Plasmabeschichtungs- oder Plasmabehandlungsprozess ausgesetzte Frontelektrode (2) des Schwingquarzes (1) isoliert gegen das Gehäuse (5) der Anordnung und als planare Langmuir-Sonde ausgebildet und mit einem außerhalb der Plasmaanlage angeordneten Strom-Spannungs-Kennlinien-Messgerät (14) zur Messung der Langmuir-Kennlinie (IL(U)) verbunden, gegenüber der Rückelektrode (3) des Schwingquarzes (1) ist ein pyrometrischer Sensor (4) zur Messung der mittleren Temperatur (TQ) der Rückelektrode (3) des Schwingquarzes (1) angeordnet und der Schwingquarz (1) mit seiner als planare Langmuir-Sonde ausgebildeten Frontelektrode (2) und der pyrometrische Sensor (4) bilden einen Kombinationssensor (10), der in einem Sensorgehäuse (5) angeordnet ist, das eine der Frontelektrode (2) des Schwingquarzes (1) gegenüber liegende Öffnung aufweist, außerhalb des Sensorgehäuses (5) zwischen dessen Öffnung und der Plasmaquelle in der Plasmaanlage eine schwenkbare Abschirmblende (9) angeordnet ist, der Kombinationssensor (10) verfahrbar ausgebildet und mit Mess- (12, 13, 14) und Auswerteeinheiten und diese mit einem Rechner (15) zur Datenaufnahme, -auswertung und -darstellung verbunden sind, wobei der Schwingquarz (1) mit einer Messeinheit (13) für die Bestimmung der Schwingquarzfrequenz (fQ) und die planare Langmuir-Sonde (14) mit einer Messeinheit für die Messung ihrer Strom-Spannungs-Kennlinie (IL(U)) und der pyrometrische Sensor (4) mit einem Messverstärker (12) verbunden ist, und der Rechner (15) mittels eines Messprogramms aus diesen Messgrößen die Abscheide–bzw. Ätzrate (R(t)), die Plasmadichte (ne bzw. ni), die Elektronentemperatur (Te) und den totalen Energieeintrag (Eein) der Plasmaprozesse ermittelt.
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