发明名称 一种溶剂渗透纳米压印微纳结构制备方法
摘要 本发明是一种利用溶剂渗透的方法制备微纳结构的纳米压印方法。其特征在于:首先利用聚合物溶液和硅橡胶(PDMS)软模板进行聚合物溶液的微纳结构预成型,然后利用聚合物溶液中的溶剂向PDMS模板的渗透使聚合物析出的方法实现聚合物微纳结构的成型。这种制备微纳结构的方法适合多种聚合物以及聚合物/纳米粒子共混物的微纳结构加工,对成型材料限制少,适用范围广;成型过程中无需紫外光或者加热辅助固化,成型设备简单,成本低。
申请公布号 CN102955355A 申请公布日期 2013.03.06
申请号 CN201110290555.0 申请日期 2011.09.26
申请人 上海市纳米科技与产业发展促进中心 发明人 王金合;闵国全;宋志棠;周伟民;张静;张燕萍
分类号 G03F7/00(2006.01)I 主分类号 G03F7/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种微纳结构的加工方法,其特征在于:采用聚合物或者聚合物/纳米粒子共混物溶液和软模板进行预成型,然后通过溶剂渗透方法去除溶剂使聚合物析出形成微纳结构图案,过程中无需紫外光或者加热固化过程。
地址 200237 上海市徐汇区嘉川路245号3号楼3层
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