| 发明名称 | 空穴注入层/传输层组合物及装置 | ||
| 摘要 | 应用于HIL/HTL的组合物，其包括固有导电的聚合物、平面化剂和掺杂剂，其溶于非水溶剂。可以使用立体规则性烷基/烷氧基和芳基取代的聚噻吩的嵌段共聚物。可以将该组合物制成薄膜。可以实现优异的效能和寿命稳定性。 | ||
| 申请公布号 | CN101679714B | 申请公布日期 | 2013.03.06 |
| 申请号 | CN200680007564.1 | 申请日期 | 2006.02.09 |
| 申请人 | 普莱克斯托尼克斯公司 | 发明人 | 特洛伊·D·哈蒙德;肖恩·P·威廉姆斯;埃琳娜·舍伊娜;布赖恩·伍德沃斯;达林·莱尔德;克里斯托弗·格雷科 |
| 分类号 | C08L41/00(2006.01)I;C08L65/02(2006.01)I;C08L101/12(2006.01)I;C08L65/00(2006.01)I;C08L79/02(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I | 主分类号 | C08L41/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 高龙鑫 |
| 主权项 | 一种用在空穴注入层或空穴传输层中的混合组合物，其包括以下组分：(i)至少一种固有导电的聚合物，所述固有导电的聚合物是立体规则性3‑取代聚噻吩的均聚物或共聚物，(ii)至少一种导电聚合物的掺杂剂，其中所述掺杂剂选自卤分子、三氯化铁或三氯化金、五氟化砷、次氯酸碱金属盐、质子酸、有机酸、亚硝鎓离子盐、有机氧化剂和高价碘氧化剂；和(iii)至少一种平面化剂，其中所述平面化剂是合成聚合物，所述合成聚合物选自聚(苯乙烯)或聚(苯乙烯)衍生物、聚(乙酸乙烯酯)或其衍生物、聚(乙二醇)或其衍生物、聚(乙烯‑共‑乙酸乙烯酯)、聚(吡咯烷酮)或其衍生物、聚(乙烯基吡啶)或其衍生物、聚(甲基丙烯酸甲酯)或其衍生物、聚(丙烯酸丁酯)或其衍生物；其中当组合物为厚度小于200nm的空穴注入层或空穴传输层的形式时，所述组分可溶于非水溶剂，且配制形成相容的混合物，并且其中所述固有导电的聚合物、所述掺杂剂和所述平面化剂的量分别为0.5wt％～25wt％、0.5wt％～5wt％和0.5wt％～80wt％。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚 | ||