ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的制备方法

摘要

本发明涉及一种ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的制备方法，该方法根据ULSI铜能在氧化剂作用下和碱发生化学反应，抛光液选用碱性介质。该抛光液选用纳米SiO2磨料，磨料的浓度为4-50wt%，粒径15-40nm，以利于材料的去除及表面平整化。抛光液的pH值9-13，既能满足有效去除，也能保证硅溶胶的稳定性。制备过程中采用负压搅拌，不仅搅拌均匀，有效解决因反应液局部碱性过高导致的SiO2胶体凝聚、溶解等生产问题，而且避免了传统的复配、机械搅拌等制备方法带来的有机物、大颗粒、金属离子等的污染，可达到超净的要求。该方法同时可实现纳米SiO2磨料高浓度、高pH值条件下不凝聚、不溶解。利用该方法配制的抛光液进行抛光，可实现ULSI铜表面的高精密加工。

主权项

一种ULSI铜表面高精密加工过程中化学机械抛光液的制备方法，其特征在于实施步骤如下： （1）将以下成分按重量%计：纳米SiO2磨料：2‑80，     去离子水：10‑95，活性剂：0.1‑3，           络合剂：0.1‑3 ，   胺碱：0.1‑5； （2）采用18MΩ以上超纯水清洗反应器3次，去除反应器内部杂质，再用负压将pH值9‑13、粒径为15‑40nm SiO2溶胶吸入反应器；（3）在负压作用下,实现反应液的剧烈涡流搅拌，使反应器内部无滞留层与死角；利用负压吸入经18MΩ超纯水稀释后的碱性pH调节剂调节pH值为9‑13；在涡流状态下加入所述量的活性剂、络合剂与碱性pH调节剂胺碱，搅拌均匀。