用于减小图案效应的多重化学处理工艺

摘要

本发明提供了用于减小图案效应的多重化学处理工艺。描述了在具有减小的缺陷的状态下对衬底进行图案化的方法和系统。一旦使用光刻技术在辐射敏感材料的层中形成图案，衬底被清洗以移除剩余的显影溶液和/或其他材料。之后，使用第一化学溶液执行第一化学处理，以及使用第二化学溶液执行第二化学处理，其中，第二化学溶液具有与第一化学溶液不同的化学成分。在一个实施例中，第一化学溶液也被选择来减小图案坍塌，并且第二化学溶液被选择来减小图案变形，诸如线边缘粗糙度(LER)和/或线宽粗糙度(LWR)。

主权项

一种用于对衬底进行图案化的方法，包括：在所述衬底上形成辐射敏感材料的层；将所述辐射敏感材料的层暴露到与图像图案相对应的电磁(EM)辐射；对所述辐射敏感材料的层进行显影以在其中形成来自所述图像图案的图案；用清洗溶液清洗所述衬底；执行在所述清洗之后的第一化学处理，其中，所述第一化学处理包括第一化学溶液；以及执行在所述清洗之后的第二化学处理，其中，所述第二化学处理包括第二化学溶液，所述第二化学溶液具有与所述第一化学溶液不同的化学成分。