发明名称 金属化方法、混合物以及电子器件
摘要 本发明的一方面提供处理基底的方法。在一实施方式中,所述方法包括通过以下方式在所述基底上或内部形成导电体:提供包含金属颗粒和无电沉积溶液的混合物,和无电沉积金属基体以及共沉积所述金属颗粒。在另一实施方式中,所述方法包括通过以下方式在所述基底上或内部形成导电体:提供包含金属颗粒和电化学镀溶液的混合物,和电化学镀金属基体以及共沉积所述金属颗粒。本发明的另一方面提供用于在基底上或内部形成导电体的混合物。本发明的另一方面提供一种电子器件。
申请公布号 CN102959687A 申请公布日期 2013.03.06
申请号 CN201180032031.X 申请日期 2011.07.01
申请人 朗姆研究公司 发明人 阿尔图尔·科利奇;弗里茨·雷德克
分类号 H01L21/288(2006.01)I 主分类号 H01L21/288(2006.01)I
代理机构 上海胜康律师事务所 31263 代理人 李献忠
主权项 一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:提供基底;和通过以下步骤在所述基底上或所述基底内形成导电体:提供包含金属颗粒和无电沉积溶液的混合物,无电沉积金属基体和共沉积所述金属颗粒;或提供包含金属颗粒和电化学镀溶液的混合物,电化学镀金属基体和共沉积所述金属颗粒。
地址 美国加利福尼亚州