发明名称 | 金属化方法、混合物以及电子器件 | ||
摘要 | 本发明的一方面提供处理基底的方法。在一实施方式中,所述方法包括通过以下方式在所述基底上或内部形成导电体:提供包含金属颗粒和无电沉积溶液的混合物,和无电沉积金属基体以及共沉积所述金属颗粒。在另一实施方式中,所述方法包括通过以下方式在所述基底上或内部形成导电体:提供包含金属颗粒和电化学镀溶液的混合物,和电化学镀金属基体以及共沉积所述金属颗粒。本发明的另一方面提供用于在基底上或内部形成导电体的混合物。本发明的另一方面提供一种电子器件。 | ||
申请公布号 | CN102959687A | 申请公布日期 | 2013.03.06 |
申请号 | CN201180032031.X | 申请日期 | 2011.07.01 |
申请人 | 朗姆研究公司 | 发明人 | 阿尔图尔·科利奇;弗里茨·雷德克 |
分类号 | H01L21/288(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/288(2006.01)I |
代理机构 | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人 | 李献忠 |
主权项 | 一种制造半导体器件的方法,所述方法包括:提供基底;和通过以下步骤在所述基底上或所述基底内形成导电体:提供包含金属颗粒和无电沉积溶液的混合物,无电沉积金属基体和共沉积所述金属颗粒;或提供包含金属颗粒和电化学镀溶液的混合物,电化学镀金属基体和共沉积所述金属颗粒。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |