| 发明名称 | 纳米颗粒的制法、由其制备的纳米颗粒、和光子晶体器件 | ||
| 摘要 | 制备高折射纳米颗粒的方法，通过所述方法制备的纳米颗粒和使用所述纳米颗粒的光子晶体器件。所述方法包括：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒，其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗粒的一步中控制所述高折射纳米颗粒的尺寸。使用通过所述方法制备的所述高折射纳米颗粒的光子晶体器件可具有高反射率和高能见度。 | ||
| 申请公布号 | CN102951606A | 申请公布日期 | 2013.03.06 |
| 申请号 | CN201210185668.9 | 申请日期 | 2012.06.06 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 韩文奎;沈洪植;申昶均;全锡珍 |
| 分类号 | B82B3/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;G02B1/02(2006.01)I | 主分类号 | B82B3/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 金拟粲 |
| 主权项 | 制备高折射纳米颗粒的方法，所述方法包括：将聚合物稳定剂加入溶剂；和将具有等于或大于1.8的折射率的高折射纳米颗粒的原料加入所述溶剂并将其搅拌以形成高折射纳米颗粒，其中通过调节所述聚合物稳定剂的含量以控制吸附到所述高折射纳米颗粒表面的所述聚合物稳定剂的量，在从加入所述原料到形成所述高折射纳米颗粒的一步中控制所述高折射纳米颗粒的尺寸。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||