发明名称 | 具有界面绒化层的InP基发光二极管及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种发光二极管,包括:P-InP衬底,在P-InP上依次外延生长的p-InP缓冲层、布拉格反射层、p型包覆层、有源层、n型包覆层、电流扩展层和欧姆接触层;在电流扩展层和欧姆接触层之间具有界面绒化层;其中,界面绒化层为n-(AlxGa1-x)yIn1-yP,x为0.2~0.3,y为0.35~0.45;界面绒化层的掺杂浓度为5×1020~1×1021;界面绒化层的外延厚度为0.1~0.3微米。该发光二极管的外量子效率高,亮度高。 | ||
申请公布号 | CN102956778A | 申请公布日期 | 2013.03.06 |
申请号 | CN201210418773.2 | 申请日期 | 2012.10.26 |
申请人 | 江苏威纳德照明科技有限公司 | 发明人 | 虞浩辉;周宇杭 |
分类号 | H01L33/22(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/22(2010.01)I |
代理机构 | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人 | 黄明哲 |
主权项 | 一种发光二极管,包括:P‑InP衬底,在P‑InP上依次外延生长的p‑InP缓冲层、布拉格反射层、p型包覆层、有源层、n型包覆层、电流扩展层和欧姆接触层;其特征在于,在电流扩展层和欧姆接触层之间具有界面绒化层;其中,界面绒化层为n‑(AlxGa1‑x)yIn1‑yP,其中x为0.2~0.3,y为0.35~0.45;界面绒化层的掺杂浓度为1×1020~5×1021,界面绒化层的外延厚度优选为0.1~0.3微米。 | ||
地址 | 213342 江苏省常州市溧阳市社渚镇创新路8号 |