用以预处理及稳定蚀刻腔室之方法及蚀刻腔室、制程腔室之清洁方法

摘要

本发明提供一种用以蚀刻腔室之清洁方法，包含提供一蚀刻腔室；导入一含有惰性气体之第一气体至蚀刻腔室中持续一第一时间；以及在持续第一时间后，传送一第一晶圆进入蚀刻腔室，对第一晶圆进行蚀刻制程。