发明名称 透明导电膜制造用之氧化物烧结体
摘要 本发明提供一种于平面显示器用显示电极等所使用之ITO系非晶质透明导电膜,于基板未加热而溅镀时无须添加水即可进行制造,能高度满足高蚀刻性与低电阻率两者。系以氧化铟为主成分,并含有选自镍、锰、铝以及锗中1种以上做为第一添加元素,第一添加元素之含量合计相对于铟与第一添加元素之合计量为2~12原子%。
申请公布号 TWI387574 申请公布日期 2013.03.01
申请号 TW098131830 申请日期 2009.09.22
申请人 JX日鑛日石金属股份有限公司 日本 发明人 生泽正克;矢作政隆
分类号 C04B35/01;C23C14/34;C23C14/08;H01B5/14 主分类号 C04B35/01
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本