遮罩修整

摘要

提供一蚀刻介电层之方法。在介电层上形成具有遮罩特征的图案化遮罩。该遮罩具有该遮罩特征的隔离区和密集区。该遮罩系由复数循环所修整，其中各个循环包括沈积一沈积层，及选择性蚀刻该沈积层和该图案化遮罩。该选择性蚀刻相对于该遮罩的该密集区而选择性修整该遮罩的该隔离区。使用该如此修整的遮罩来蚀刻该介电层。将该遮罩移除。