Lithographic apparatus and gas flow conditioner,申请号EP20050077375-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	Lithographic apparatus and gas flow conditioner
摘要
申请公布号	EP1650603(B1)	申请公布日期	2013.02.27
申请号	EP20050077375	申请日期	2005.10.14
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	LALLEMANT, NICOLAS ALBAN;BECKERS, MARCEL;HERTOG, WLADIMIR FRANSISCUS GERARDUS MARIA;VAN DER PLAS, DAVID THEODORUS WILLY;KOELINK, STEPHAN;JANSEN, ROB
分类号	G03F7/20	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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