| 发明名称 | 基板反转装置、真空成膜装置以及基板反转方法 | ||
| 摘要 | 提供在真空中使基板迅速反转的技术。本发明的基板反转装置（20）具有：在作为真空槽的腔室（21）内使基板（50）升降的升降机构（60）；具有以夹持基板（50）的方式保持基板的把持部（41a、42a）的基板保持机构（4A～4D）；以及使基板保持机构（4A～4D）的把持部（41a、42a）旋转来使基板（50）的上下关系反转的基板旋转机构（30）。在本发明中，在保持基板（50）的状态下，使基板旋转机构（30）以沿水平方向延伸的直线为旋转轴旋转180°。 | ||
| 申请公布号 | CN102947481A | 申请公布日期 | 2013.02.27 |
| 申请号 | CN201080067571.7 | 申请日期 | 2010.06.21 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 加藤裕子;菊池正志;龟崎厚治;冈山智彦;堀英介;小泉和彦 |
| 分类号 | C23C14/50(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 陈国慧;杨楷 |
| 主权项 | 一种基板反转装置，该基板反转装置具有：真空槽；升降机构，设置于上述真空槽内，用于使基板升降；基板保持机构，设置于上述真空槽内，具有多个以夹持基板的方式保持基板的保持部；以及基板反转机构，设置于上述真空槽内，使上述基板保持机构的保持部旋转来使该基板的上下关系反转。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||