发明名称 |
抛光装置 |
摘要 |
本发明提供一种用于抛光基片的外周的抛光装置。该抛光装置包括配置成水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构、设置在基片周围的多个抛光头组件、配置成将抛光带供给到多个抛光头组件并从多个抛光头组件收回抛光带的多个带供给与收回机构、以及配置成沿旋转保持机构保持的基片的径向方向移动多个抛光头组件的多个移动机构。所述带供给与收回机构沿着基片径向方向设置在多个抛光头组件的外侧,且所述带供给与收回机构被固定在位。 |
申请公布号 |
CN102941522A |
申请公布日期 |
2013.02.27 |
申请号 |
CN201210398644.1 |
申请日期 |
2008.12.02 |
申请人 |
株式会社荏原制作所 |
发明人 |
高桥圭瑞;关正也;草宏明;山口健二;中西正行 |
分类号 |
B24B21/00(2006.01)I;B24B21/18(2006.01)I;B24B21/20(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
B24B21/00(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
蔡洪贵 |
主权项 |
一种用于抛光基片的缺口部分的抛光装置,其中,所述抛光装置包括:水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构;使用抛光带抛光基片的多个抛光头模块;以及使所述多个抛光头模块相互独立地移动的移动机构;所述多个抛光头模块中的每个包括使抛光带与基片的缺口部分滑动接触的抛光头、以及将所述抛光带供给到所述抛光头并从所述抛光头收回抛光带的带供给与收回机构。 |
地址 |
日本东京 |