| 发明名称 | 激光能量控制方法和系统 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种激光能量控制方法和系统。所述方法包括：获取激光器的平均发射功率，判断所述平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小，根据判断结果调整所述激光器的激光发射脉冲占空比使所述平均发射功率趋于预设功率。上述激光能量控制方法和系统，通过获取激光器的平均发射功率，判断平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小，根据判断结果调整激光器的激光发射脉冲占空比使平均发射功率趋于预设功率，从而使激光器的平均发射功率保持稳定，激光打标时使标记的颜色和深度均匀，提高了加工质量和加工效率。 | ||
| 申请公布号 | CN102946046A | 申请公布日期 | 2013.02.27 |
| 申请号 | CN201210478832.5 | 申请日期 | 2012.11.22 |
| 申请人 | 深圳市大族激光科技股份有限公司 | 发明人 | 王苗;陈克胜;孟方;王建波;高云峰 |
| 分类号 | H01S3/10(2006.01)I;H01S5/06(2006.01)I | 主分类号 | H01S3/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人 | 何平 |
| 主权项 | 一种激光能量控制方法，包括如下步骤：获取激光器的平均发射功率；判断所述平均发射功率和存储器中的预设功率之间的大小；根据判断结果调整所述激光器的激光发射脉冲占空比以使所述平均发射功率趋于预设功率。 | ||
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区高新技术园北区新西路9号 | ||