一种光波导及其制作方法

摘要

本发明提供了一种光波导，包括芯层、下包层和上包层，芯层位于上包层和下包层之间，下包层形状为条形，采用氧化硅材料，芯层位于下包层的正上方；发明提出了三种光波导的制作方法，其核心思想在于首先在硅衬底上制作图形化掩膜，刻蚀后的图形衬底再进行氧化，快速制备较厚的下包层；然后通过调整工艺参数，只在图形凸起区域制作波导芯区；最后沉积波导上包层，从而完成波导的制作。本发明提出的波导结构，兼有低损耗、成膜速率快、制备工艺简单的优点。与本发明相匹配的光波导的制作方法，能够以较快的成膜速率制备包层，大大简化了光波导的制作工艺。

主权项

一种光波导，包括芯层、下包层和上包层，芯层位于上包层和下包层之间，其特征在于：下包层形状为条形，采用氧化硅材料，芯层位于下包层的正上方。