一种暴露{110}面二氧化钛光催化材料及其制备方法

摘要

本发明涉及一种{110}高能面暴露的二氧化钛光催化材料及其制备方法。所述光催化材料由暴露面为{101}、{001}和{110}面，且{110}所占比例高达20％。其制备方法包括以下步骤：(1)在水溶液体系中，加入钛源，并以双氧水及氢氟酸作为晶体生长的调节剂，在120～220℃下水热反应3～36小时，即可得到{110}面暴露的锐钛矿二氧化钛单晶；(2)通过水洗离心，高温煅烧除去溶液中的杂质离子；(3)用真空干燥箱对样品进行干燥，得到二氧化钛单晶光催化材料粉末。本发明具有制备过程简单、条件温和、后处理方便等优点，且本发明所制备的光催化剂对染料等有机污染物(罗丹明B)有较好的光催化降解活性。

主权项

一种大面积{110}面暴露的二氧化钛光催化材料，其特征在于，所述催化剂为锐钛矿相二氧化钛单晶。