扩散膜及其制造方法

摘要

本发明提供一种扩散膜及其制造方法，其包含一基材及位于所述基材至少一侧的凹凸微结构层，所述扩散膜根据JIS K7136标准方法测量具有不小于5％的雾度及不小于50％的全光线透过率，所述凹凸微结构层是通过使用包含与基材主成分相同或相似的材料所构成的聚合物及一种与所述聚合物不兼容的材料的涂料组合物，及将所述组合物涂布在基材上所形成。

主权项

一种扩散膜，其包含一基材及位于所述基材至少一侧的凹凸微结构层，所述扩散膜根据JIS K7136标准方法测量具有不小于5％的雾度及不小于50％的全光线透过率，所述凹凸微结构层的算数平均粗糙度Ra为0.4μm至1.5μm，其中所述凹凸微结构层是通过包括下列步骤的方法所形成：(a)将下列组份混合形成一涂料组合物：(i)一种由与基材主成分相同或相似的材料所构成的聚合物；(ii)一与组份(i)不相容的材料；及(iii)一溶剂；其中，组份(i)的比重大于组份(ii)的比重；(b)将所述涂料组合物涂布在所述基材的至少一侧上形成一涂层；(c)干燥涂层以移除组份(iii)，其中组份(i)与组份(ii)在干燥期间产生相分离；及(d)移除组份(ii)以形成所述凹凸微结构层。