| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板制作方法，涉及显示技术领域，该方法包括以下步骤：S1：在基板上形成包括栅极、栅线及栅绝缘层的图形；S2：形成包括有源层及沟道区域的图形；S3：形成包括源漏电极及数据线的图形；S4：形成包括像素电极及钝化层的图形。本发明还公开了一种通过上述方法制作的阵列基板及包括该阵列基板的显示装置。本发明通过先制作有源层及沟道，将所有干刻的工艺在制作源漏电极之前完成，避免了将带有数据金属层的阵列基板放入干刻设备反应腔室而导致的数据金属层静电放电，从而避免了静电放电会造成电路击穿，破坏电路结构的问题，进而提高了产品良率。 | ||
| 申请公布号 | CN102945829A | 申请公布日期 | 2013.02.27 |
| 申请号 | CN201210484373.1 | 申请日期 | 2012.11.23 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 白金超;孙亮;丁向前;刘耀;李梁梁 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基板上形成包括栅极、栅线及栅绝缘层的图形；S2：形成包括有源层及沟道区域的图形；S3：形成包括源漏电极及数据线的图形；S4：形成包括像素电极及钝化层的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||