基底处理装置和方法

摘要

本发明提供基底处理装置和方法。所述装置包括：支承基底的基底支承构件；喷嘴臂，其具有把光致抗蚀剂液排放到上述基底上的多个光致抗蚀剂液喷嘴；和等待口，安装在上述喷嘴臂中的多个喷嘴在该等待口中等待执行各个处理过程，该等待口设置在上述基底支承构件的侧面部分；其特征在于，上述等待口包括：具有敞开顶部的壳体，其为容纳上述多个喷嘴提供空间；和有机溶剂供应构件，与容纳在上述壳体中的上述多个光致抗蚀剂液喷嘴一一对应，该有机溶剂供应构件把有机溶剂供应到从上述相应的光致抗蚀剂液喷嘴选出来的光致抗蚀剂液喷嘴的前端。在该基底处理装置中，光致抗蚀剂液喷嘴和有机溶剂喷嘴可装在一根喷嘴臂中成为一个整体，从而减少了处理时间。

主权项

一种基底处理装置，其包括：支承基底的基底支承构件；喷嘴臂，其具有把光致抗蚀剂液排放到上述基底上的多个光致抗蚀剂液喷嘴；以及等待口，安装在上述喷嘴臂中的上述多个喷嘴在该等待口中等待执行各个处理过程，该等待口设置在上述基底支承构件的侧面部分；其特征在于，上述等待口包括：具有敞开顶部的壳体，该壳体为容纳上述多个喷嘴提供空间；以及有机溶剂供应构件，与容纳在上述壳体中的上述多个光致抗蚀剂液喷嘴一一对应，该有机溶剂供应构件把有机溶剂供应到从上述相应的光致抗蚀剂液喷嘴选出来的光致抗蚀剂液喷嘴的前端。