| 摘要 |
本发明提供一个系统和方法，包含一个装置，用来移除在半导体设备中的气体中的污染物，该装置可包括一个过滤单位，具有至少两个平行过滤平台位于其中。过滤平台系设计为移除流过其间的气体中的至少一部份污染物。该装置也包括一个气流控制器，用来分配过滤平台之间的气体气流。于一个具体模式例中，控制器可以由扩散器板组成。本发明也提供一个取样管状孔口，在本发明之系统或方法中作为气体气流之控制，于另一个具体模式例中，一个用来移除净室中的气体中污染物的装置包含一个过滤单位，具有至少两个平行过滤平台，该装置系用来移除经过该装置之气体中的一部份污染物。 |
