发明名称 在腔室中处理基片的方法及系统
摘要 本发明公开了一种处理基片(例如太阳能电池板)的装置。根据实施例的一方面,工艺腔室包括用于接收至少一种化学物质的开口;设有复数个工件夹具的平台,所述工件夹具用于垂直持有复数个工件;复数个加热器,每个所述加热器设于两个工件之间;复数个沉积装置,每个所述沉积装置设于两个工件之间。因而,每个工件都位于一个所述加热器和一个所述沉积装置之间,其中,每个所述沉积装置包括至少两个设有孔的喷射板,化学物质可通过所述两个喷射板喷射到工件上。
申请公布号 TWI386515 申请公布日期 2013.02.21
申请号 TW097151776 申请日期 2008.12.31
申请人 东莞宏威数码机械有限公司 中国 发明人 范振华
分类号 C23C16/44;H01L31/042 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人 洪尧顺 台北市内湖区行爱路176号3楼
主权项
地址 中国