摘要 |
Material de revestimiento, que contiene (a) primeras partículas oxídicas formadas por condensación hidrolítica en un intervalo de tamaño de 5-20nm, (b) segundas partículas con un diámetro en el intervalo de tamaño de 80-300 nm, (c) un primer disolvente que contiene agua, en el que es soluble el material de partida para las partículasoxídicas formadas por condensación hidrolítica y que permite o facilita su hidrólisis y condensación,preparándose las primeras partículas oxídicas formadas por condensación hidrolítica con ayuda delprocedimiento sol-gel in situ en el primer disolvente, y (d) al menos un segundo disolvente, seleccionado entre alcoholes, éteres, ácidos orgánicos, ésteres,cetonas, aminas y amidas de ácido de fórmulas y y mezclas de los mismos, en las que R y R1 son eventualmente iguales o distintos y significan alquilo,alcoxilo o poliéteralcoxilo de cadena lineal o ramificado, saturado o insaturado, no sustituido o sustituido conhidroxilo, -NHR2, amido, imino, -COOR2 y/o alcoxicarbonilo, o en las que R y R1 con la formación de ungrupo alquileno, oxialquileno o alquilen(poli)oxialquileno de cadena lineal o ramificado, insaturado o nosustituido o sustituido con hidroxilo, -NHR2, amido, imino, -COOR2 y/o alcoxicarbonilo están enlazados entresí formando un anillo, con la condición de que R no sea ningún alquilo no sustituido, cuando el disolvente seencuentra en la fórmula ROH, y en las que R2 es eventualmente igual o distinto y significa H o alquilo C1 aC6. |