发明名称 |
等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和等离子体处理装置 |
摘要 |
本发明的目的在于提供使利用转动等离子体进行的等离子体处理稳定且可以控制、并可以提高等离子体处理质量的等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和使用它的等离子体处理装置。4个象限(Z1~Z4)中的各频率被设定为7、15、6、20Hz。利用该频率可变,可以使被分割成4个的转动角区域中的等离子体的转动速度不同。由于等离子体(P2、P4)的周向转动速度比等离子体(P1、P3)快,所以可以照射边描绘圆轨道(C)边从等离子体(P1)到(P2)、(P3)、(PB4)周期性变速转动的转动等离子体,可以在第一象限(Z1)~第四象限(Z4)中实施均匀的成膜处理。 |
申请公布号 |
CN102939404A |
申请公布日期 |
2013.02.20 |
申请号 |
CN201180024693.2 |
申请日期 |
2011.04.20 |
申请人 |
日本磁性技术株式会社 |
发明人 |
鹭坂圭亮;野口义文 |
分类号 |
C23C14/32(2006.01)I;H05H1/48(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/32(2006.01)I |
代理机构 |
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 |
代理人 |
李雪春;王维玉 |
主权项 |
一种等离子体流生成方法,以构成等离子体的物质的供应源为阴极,在所述阴极的前方或周围设置阳极,通过产生所述电弧放电,在所述阴极和所述阳极之间产生电弧等离子体,利用转动磁场产生在等离子体行进方向周围转动的等离子体流,所述等离子体流生成方法的特征在于,把所述等离子体行进方向周围的等离子体的转动角区域分割成两个以上的区域,使各转动角区域中的等离子体的转动速度不同。 |
地址 |
日本东京都 |