发明名称 CONTROL DE EXPOSICION PARA UN SISTEMA DE FORMACION DE IMAGENES
摘要 Control de exposición para un sistema de formación de imágenes. Dispositivo que analiza una imagen. El dispositivo comprende un circuito que recibe una imagen que incluye una pluralidad de píxeles. El circuito crea un histograma de la imagen y lo analiza para determinar una exposición aceptable de la imagen. El histograma puede incluir una pluralidad de bins contra una población de píxeles asociada con cada bin. A modo de ejemplo, los bins pueden estar asociados con una intensidad de la luz. Las imágenes y los histogramas pueden incluir datos definidos por un número de rango dinámico bajo de bits y/o un número de bits de rango dinámico extendido. Ciertas características y criterios de la imagen pueden ser determinados y analizados para determinar si la imagen tiene una exposición aceptable. Si la imagen es inaceptable, una característica de exposición se puede cambiar y el proceso puede ser repetido hasta obtener una imagen aceptable.
申请公布号 ES2396318(A1) 申请公布日期 2013.02.20
申请号 ES20100090004 申请日期 2008.07.16
申请人 YEO, YUNN-EN;HIOK NAM, TAY;CANDELA MICROSYSTEMS (S) PTE. LTD. 发明人 HIOK NAM, TAY
分类号 H04N5/235 主分类号 H04N5/235
代理机构 代理人
主权项
地址