发明名称 |
用于缺陷检测的方法和系统 |
摘要 |
一种用于掩模版评估的系统、方法和计算机可读媒质,该方法包括:(i)在成像工艺期间,在不同的偏振和可选的干涉测量条件下,得到掩模版的多重图像;以及(ii)响应(i)多重图像和(ii)成像工艺和曝光工艺之间的差别以产生输出航空图像;其中在曝光工艺期间掩模版的图像投射到晶圆上。 |
申请公布号 |
CN101451963B |
申请公布日期 |
2013.02.20 |
申请号 |
CN200710142879.3 |
申请日期 |
2007.08.01 |
申请人 |
以色列商·应用材料以色列公司 |
发明人 |
史密尔·曼根;鲍里斯·戈德堡;伊谢·施瓦茨班德;翁·哈伦;迈克尔·本-伊谢;阿米尔·萨吉弗 |
分类号 |
G01N21/956(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/956(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;梁挥 |
主权项 |
一种用于掩模版评估的方法,该方法包含在成像工艺期间,在不同的偏振条件下得到所述掩模版的多重图像;以及通过处理所述多重图像以补偿所述成像工艺和曝光工艺之间的差别来产生输出航空图像,其中在所述曝光工艺期间所述掩模版的图像投射到晶圆上,所述处理所述多重图像包括:将图像的特定偏振分量分解为其光谱分量;在至少一个光谱分量上应用修正函数以补偿所述成像工艺和曝光工艺之间的差别,其中所述修正函数响应至少一种偏振相关属性并且是下述修正函数中的至少一种:与单一光谱分量的光谱频率的平方成反比的修正函数和响应用于形成所述掩模版的多重图像的光线之间的角度的修正函数;以及分析所述输出航空图像以估计掩模版特征的临界尺寸。 |
地址 |
以色列雷霍沃特 |