发明名称 一种湿刻设备
摘要 本实用新型实施例提供一种湿刻设备,包括:喷头本体;所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分;所述喷头本体的第二端具有一个凹槽;贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道,所述导流道的末端位于所述凹槽中;所述导流道的末端具有一喷射孔。螺纹部分用于固定喷嘴,喷头本体是喷射药液的主要区域,这种结构保证了喷射药液所形成的液面为近似矩形,有效的增大了喷射的面积,减少了在刻蚀过程中药液的使用量,保证了刻蚀的效果,提高了刻蚀的速度。
申请公布号 CN202730239U 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201220397991.8 申请日期 2012.08.10
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 赵德江;张玉军;崔伟;祝杰
分类号 C23F1/08(2006.01)I 主分类号 C23F1/08(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 许静;安利霞
主权项 一种湿刻设备,其特征在于,包括多个喷嘴,一个所述喷嘴包括:喷头本体;所述喷头本体的第一端具有用于进行机械固定的螺纹部分;所述喷头本体的第二端具有一个凹槽;贯通所述喷头本体的用于输送刻蚀药液的导流道,所述导流道的末端位于所述凹槽中;所述导流道的末端具有一喷射孔。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
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