| 发明名称 | 一种CVD反应腔体的清洁方法和系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种CVD反应腔体的清洁方法和系统，包括：将置于隔离片腔体内的隔离片转移至反应腔体内，并将隔离片覆盖于所述硅片承载台上，隔离片可抗强酸腐蚀；向反应腔体内通入清洁气体，以对CVD反应腔体进行清洁；清洁完成后，将隔离片转移至隔离片腔体内。当向反应腔体内通入清洁气体后，由于隔离片的阻隔，清洁气体不会腐蚀硅片承载台，从而延长了硅片承载台的使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN102925874A | 申请公布日期 | 2013.02.13 |
| 申请号 | CN201110227403.6 | 申请日期 | 2011.08.09 |
| 申请人 | 无锡华润上华科技有限公司 | 发明人 | 朱晓军 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 常亮;李辰 |
| 主权项 | 一种CVD反应腔体的清洁方法，其特征在于，包括：将置于隔离片腔体内的隔离片转移至反应腔体内，并将所述隔离片覆盖于所述硅片承载台上，所述隔离片可抗强酸腐蚀；向所述反应腔体内通入清洁气体，以对所述CVD反应腔体进行清洁；清洁完成后，将所述隔离片转移至所述隔离片腔体内。 | ||
| 地址 | 214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 | ||