发明名称 具有孔的介质基板和制造方法
摘要 本发明的一个方面包括一种在介质基板中形成孔的方法,该方法包括以下步骤:将一层光致抗蚀剂涂敷到介质基板上,通过光掩模将光致抗蚀剂的一部分暴露到光化辐射,以在光致抗蚀剂中形成用于在基板中将被蚀刻的孔阵列的图案,显影该光致抗蚀剂,蚀刻该介质基板以形成孔阵列,每个孔至少部分地延伸穿过介质基板,和移除过多的光致抗蚀剂。本发明的另一个方面是在介质基板中同时地形成孔的方法,一些所述孔部分地延伸穿过基板,以及一些所述孔完全延伸穿过基板。本发明的其它方面是利用本发明的方法形成的介质基板。
申请公布号 CN101248708B 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN200680022796.4 申请日期 2006.06.20
申请人 3M创新有限公司 发明人 李勇进;付一良;大仓启幸;伊东正彦;小柳达则
分类号 H05K1/00(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I 主分类号 H05K1/00(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 孙志湧;陆锦华
主权项 一种在柔性电路介质基板中形成折叠导杆的方法,包括步骤:将一层光致抗蚀剂涂敷到介质基板上,通过光掩模将光致抗蚀剂的一部分暴露到光化辐射,以在光致抗蚀剂中形成用于在基板中将被蚀刻的孔阵列的图案,显影该光致抗蚀剂,蚀刻该介质基板以形成孔阵列,每一个孔部分地延伸通过介质基板,移除过多的光致抗蚀剂,使得孔在柔性电路的介质基板中形成折叠导杆,以及提供包括明显不同的点的阵列的光掩模,其中选择光掩模上的点的尺寸和间距两者或尺寸和间距中的一个,以便在蚀刻之后形成在介质基板中的至少两个孔是相连的。
地址 美国明尼苏达州