发明名称 |
具有孔的介质基板和制造方法 |
摘要 |
本发明的一个方面包括一种在介质基板中形成孔的方法,该方法包括以下步骤:将一层光致抗蚀剂涂敷到介质基板上,通过光掩模将光致抗蚀剂的一部分暴露到光化辐射,以在光致抗蚀剂中形成用于在基板中将被蚀刻的孔阵列的图案,显影该光致抗蚀剂,蚀刻该介质基板以形成孔阵列,每个孔至少部分地延伸穿过介质基板,和移除过多的光致抗蚀剂。本发明的另一个方面是在介质基板中同时地形成孔的方法,一些所述孔部分地延伸穿过基板,以及一些所述孔完全延伸穿过基板。本发明的其它方面是利用本发明的方法形成的介质基板。 |
申请公布号 |
CN101248708B |
申请公布日期 |
2013.02.13 |
申请号 |
CN200680022796.4 |
申请日期 |
2006.06.20 |
申请人 |
3M创新有限公司 |
发明人 |
李勇进;付一良;大仓启幸;伊东正彦;小柳达则 |
分类号 |
H05K1/00(2006.01)I;H05K3/00(2006.01)I |
主分类号 |
H05K1/00(2006.01)I |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 |
代理人 |
孙志湧;陆锦华 |
主权项 |
一种在柔性电路介质基板中形成折叠导杆的方法,包括步骤:将一层光致抗蚀剂涂敷到介质基板上,通过光掩模将光致抗蚀剂的一部分暴露到光化辐射,以在光致抗蚀剂中形成用于在基板中将被蚀刻的孔阵列的图案,显影该光致抗蚀剂,蚀刻该介质基板以形成孔阵列,每一个孔部分地延伸通过介质基板,移除过多的光致抗蚀剂,使得孔在柔性电路的介质基板中形成折叠导杆,以及提供包括明显不同的点的阵列的光掩模,其中选择光掩模上的点的尺寸和间距两者或尺寸和间距中的一个,以便在蚀刻之后形成在介质基板中的至少两个孔是相连的。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |