发明名称 清洗系统
摘要 本发明涉及一种清洗系统,包括冲溢水槽,所述冲溢水槽包括水槽壳体和用于冲水的喷头,所述水槽壳体包括相互连接的槽壁和槽底,所述水槽壳体上开设有进水口,所述槽底开设有排水口。本发明将硅片在冲溢水槽中同时进行喷水和溢水的清洗工序,并在槽底开设排水口,能获得较好的清洗效果,并节省了清洗时间和去离子水的用量。
申请公布号 CN102184838B 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201110056074.3 申请日期 2011.03.09
申请人 深圳深爱半导体股份有限公司 发明人 王友旺;裴新;林盛浩;胡华;肖雁行;刘宝亮
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;F16K31/12(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人 吴平
主权项 一种清洗系统,其特征在于,包括冲溢水槽,所述冲溢水槽包括水槽壳体和用于冲水的喷头,所述水槽壳体包括相互连接的槽壁和槽底,所述水槽壳体上开设有进水口,所述槽底开设有排水口;所述清洗系统还包括连接于所述进水口和/或喷头的气动水阀,所述气动水阀包括顺序连接的阀盖、阀身以及阀座,还包括阀芯;所述阀盖开设有第一进气孔;所述阀身开设有中空的气腔以及与所述气腔连通的通孔,所述气腔与所述通孔配合贯穿所述阀身,所述阀身还开设有与所述气腔连通的第二进气孔;所述阀座开设有中空的内腔以及与所述内腔连通的第一水孔和第二水孔;所述阀身开设有通孔的一端与所述阀座相接,另一端与所述阀盖相接;所述第一进气孔、通孔以及第一水孔的延伸方向相互平行,所述第二进气孔的延伸方向与所述通孔的延伸方向垂直,且所述第二进气孔设于所述阀身上靠近所述通孔的一端;所述阀芯包括阀身部和阀座部,所述阀身部包括相连的头部和杆部,所述头部与所述气腔紧密配合并可在所述气腔内滑动,所述杆部与所述通孔紧密配合并从所述通孔穿出,所述头部的横截面积大于所述杆部的横截面积以与所述阀座相抵持,所述杆部在尾端沿自身的延伸方向开设有连接孔;所述阀座部包括相连的连接部和抵止部,所述连接部插入所述连接孔与所述阀身部固定连接,并可通过所述抵止部与所述阀身部相抵持;所述抵止部背向所述连接部的一端用于堵住所述第一水孔;所述第一进气孔和第二进气孔分别与由电磁阀控制的两条进气通道相连。
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