一种板式ETP PECVD 结构

摘要

本实用新型涉及一种平板式ETPPECVD沉积系统，用于光伏领域内氮化硅、氢化非晶/微晶硅薄膜的沉积。一种板式ETPPECVD系统，上料台、下料台、电路系统、气路系统、自动控制系统、冷却水循环系统、真空下石墨载板传输系统通过螺栓依次固定于台架上，其特征在于：第一和第二初级真空腔室分别与各自的真空抽气系统连接；预热腔室和氢钝化腔室、SiNx薄膜沉积腔室、冷却腔室通过管路与第一和第二初级真空腔室连接；ETPPECVD沉积腔室通过管路和真空抽气系统连接。本实用新型实现了生产线流水作业、快速沉积，解决了微波等离子体平板PECVD存在的产能低和成本较高等问题。

主权项

一种板式ETP PECVD结构，包括上料台、下料台、电路系统、气路系统、自动控制系统、冷却水循环系统、真空下石墨载板传输系统通过螺栓依次固定于台架上，其特征在于：第一和第二初级真空腔室分别与各自的真空抽气系统连接；预热腔室和氢钝化腔室、SiNx薄膜沉积腔室、冷却腔室通过管路与第一和第二初级真空腔室连接；ETP PECVD沉积腔室通过管路和真空抽气系统连接。