发明名称 阻变存储器及降低其形成电压的方法
摘要 本发明公开了一种阻变存储器及降低其形成(Forming)电压的方法,该阻变存储器包括上电极、下电极,以及形成于该上电极与该下电极之间的阻变存储层,且该阻变存储层由氧化物存储材料构成,当采用溅射或者原子层淀积的工艺生长氧化物存储材料时,通过对提供氧元素的反应源的控制来减少氧化物中氧元素的含量,使氧化物材料中存在大量的氧空位,有利于导电细丝的形成,从而降低阻变存储器第一次由高阻态向低阻态转变时所需要的Forming电压。Forming电压的降低一方面能够进一步降低RRAM器件的功耗,并且降低了RRAM器件外围电路设计的难度。
申请公布号 CN102931343A 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201110230867.2 申请日期 2011.08.12
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 刘明;李颖弢;龙世兵;刘琦;吕杭炳;王明;张康玮
分类号 H01L45/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种阻变存储器,其特征在于,包括:上电极;下电极;以及形成于所述上电极与所述下电极之间的阻变存储层。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号