| 发明名称 | 溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种经济性优异、能够稳定地形成高品质薄膜的溅射靶及其制造方法。本发明的一实施方式涉及的溅射靶(10)包括第一靶部(120)和第二靶部(130)。第一靶部(120)形成侵蚀区域(12)。第二靶部(130)具有由第一靶部(120)覆盖的第一区域(开口部(131))以及形成非侵蚀区域(13)的第二区域。第二靶部(130)通过与第一靶部(120)搅拌摩擦焊接而一体化。 | ||
| 申请公布号 | CN102933741A | 申请公布日期 | 2013.02.13 |
| 申请号 | CN201180027932.X | 申请日期 | 2011.06.01 |
| 申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 饭岛金之;伊藤隆治 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人 | 徐川;张颖玲 |
| 主权项 | 一种溅射靶，包括：第一靶部，形成侵蚀区域；第二靶部，包括由所述第一靶部覆盖的第一区域和形成非侵蚀区域的第二区域，且所述第二靶部通过与所述第一靶部搅拌摩擦焊接而一体化。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||