发明名称 |
一种溶液法双极性薄膜晶体管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种溶液法双极性薄膜晶体管及其制备方法,属于柔性电子技术领域。所述晶体管为堆叠结构,包括绝缘衬底、栅电极、栅极绝缘层、n型无机半导体层、源/漏电极、电极修饰材料和P型有机半导体层;所述制备方法包括:首先在绝缘衬底上制备栅电极,其次在栅电极上制备栅极绝缘层,然后在栅极绝缘层上制备n型无机半导体,接着在n型无机半导体上分离地制备源/漏电极,继续在源/漏电极表面修饰电极修饰材料,最后在n型无机半导体和电极修饰材料上制备P型有机半导体层。本发明具有良好的工艺兼容性和冗余度,适用于柔性电子中的互补性逻辑电路。 |
申请公布号 |
CN102931350A |
申请公布日期 |
2013.02.13 |
申请号 |
CN201210472647.5 |
申请日期 |
2012.11.20 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
冯林润;徐小丽;唐伟;陈苏杰;郭小军 |
分类号 |
H01L51/05(2006.01)I;H01L51/30(2006.01)I;H01L51/40(2006.01)I |
主分类号 |
H01L51/05(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
祖志翔 |
主权项 |
一种溶液法双极性薄膜晶体管,其特征是,所述晶体管为堆叠结构,其包括绝缘衬底(11)、栅电极(12)、栅极绝缘层(13)、n型无机半导体层(14)、源/漏电极(15)、电极修饰材料(16)和P型有机半导体层(17);其中:所述绝缘衬底(11)位于所述晶体管的最底层,所述栅电极(12)位于所述绝缘衬底(11)之上,所述栅极绝缘层(13)覆盖在所述栅电极(12)之上,所述n型无机半导体层(14)覆盖于所述栅极绝缘层(13)之上,所述源/漏电极(15)分离地设于所述n型无机半导体层(14)上,所述电极修饰材料(16)修饰在所述源/漏电极(15)的表面上,所述P型有机半导体层(17)覆盖于所述n型无机半导体层(14)和电极修饰材料(16)之上。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号 |