发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明提供了一种单张式基板处理装置,其在直接向基板表面供应处理液,对基板进行处理时,处理液或其蒸气不会向外部飞散,在外壳的顶面等不会附着处理液或蒸气。该基板处理装置具有:外壳1;保持基板3使其处理面3a面向外壳底部1b的保持装置4,所述基板3在该外壳1内对处理面的附着物进行除去处理;对于通过保持装置4保持的基板3的处理面3a供应处理液的供应装置;用于向上述外壳1内引入气体的引入口1a;以及由外壳排出从上述引入口1a引入的气体和外壳1内的处理液蒸气的排出口1c。 | ||
申请公布号 | CN102934201A | 申请公布日期 | 2013.02.13 |
申请号 | CN201080056865.X | 申请日期 | 2010.12.13 |
申请人 | JET股份有限公司 | 发明人 | 舟桥伦正;乙训贤二;江户裕树;铃木秀明 |
分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 | 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 | 代理人 | 刘云贵;雒纯丹 |
主权项 | 一种基板处理装置,具有:外壳;使基板的处理面面向外壳底部保持基板的保持装置,所述基板在该外壳内对处理面的附着物进行除去处理;对通过保持装置保持的基板的处理面供应处理液的供应装置;用于向上述外壳内引入气体的引入口;以及,用于由外壳排出从上述引入口引入的气体和外壳内的处理液蒸气的排出口。 | ||
地址 | 日本冈山 |