发明名称 平台装置与曝光装置,以及元件制造方法
摘要 本发明是有关于一种平台装置与曝光装置,以及元件制造方法。该平台(RST),是一面浮动于平板的上方一面支撑光栅,并可移动于二维面内的三自由度方向,框状构件是以浮动于平板的上方可移动于二维面内的三自由度方向。在框状构件设置第一定子(1361~1382)、第二定子(1401、1402),在平台设第一可动元件、第二可动元件以与第一定子、第二定子各自协动以产生使平台于二维面内驱动的驱动力。因此,由平台的驱动的反力作用于第一或第二定子,由此反力框状构件大略依照动量守恒定律在二维面内移动。藉此,由平台的移动的反力可大略完全加以消除的同时,不产生包含平台及框状构件系统的重心移动的关系,偏负载亦不会作用在平板。
申请公布号 CN102103331B 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201010608474.6 申请日期 2004.01.26
申请人 株式会社尼康 发明人 柴崎祐一
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人 寿宁;张华辉
主权项 一种平台装置,其特征在于其包括:滑块,在载置面载置物体并可以于第一轴方向移动,其中前述载置面位於前述滑块的第三轴方向;一对第一可动元件,配置在前述滑块的前述载置面的第二轴方向的一侧,并以前述滑块的前述载置面为基准于前述第三轴方向对称配置;一对第二可动元件,配置在前述滑块的前述载置面的前述第二轴方向的另一侧,并以前述滑块的前述载置面为基准于前述第三轴方向对称配置;一对定子部,于前述第三轴方向对应设置于前述一对第一可动元件与前述一对第二可动元件上,与前述一对第一可动元件与前述一对第二可动元件协动以使前述滑块于前述第一轴方向驱动,其中前述第一轴方向与前述第二轴方向直交,且前述第三轴方向分别与前述第一轴方向以及前述第二轴方向直交,并且前述第三轴方向为曝光装置中的投影光学系统的光轴方向。
地址 日本东京千代田区丸之内3丁目2番3号