一种清洗半导体中的聚合物的方法

摘要

本发明公开了一种清洗半导体中的聚合物的方法，属于半导体制作领域，为解决目前在半导体制作过程中清洗聚合物时，铝片上产生白色痕迹现象而发明。所述方法包括：将残留有聚合物的半导体放入冲洗槽中，由所述冲洗槽底部向上喷水，直到溢水，使得所述水持续溢出所述冲洗槽预定时间，再将所述水排放；从所述冲洗槽底部向上喷水，同时从所述冲洗槽的顶部向所述半导体喷水，直到所述水充满所述冲洗槽，再将所述水排放；其中，所述水为去离子水。本发明可用于清洗制作半导体过程中残留的聚合物。

主权项

一种清洗半导体中的聚合物的方法，其特征在于：包括：将残留有聚合物的半导体从清洗药液槽放入冲洗槽中，由所述冲洗槽底部向上喷水，直到溢水，使得所述水持续溢出所述冲洗槽预定时间，再将所述水排放；从所述冲洗槽底部向上喷水，同时从所述冲洗槽的顶部向所述半导体喷水，直到水充满所述冲洗槽，再将所述水排放；其中，所述水为去离子水。