| 摘要 |
<p>PRODUTO DE LIBERAÇçO. A presente invenção refere-se a um produto de liberação compreendendo um substrato de base e uma camada de liberação siliconizada. O substrato de base tem um primeiro e um segundo lado. A camada de liberação silconizada é aplicada ao primeiro lado substrato de base. O produto de liberação compreende uma camada de revestimento que é aplicada diretamente tanto ao primeiro lado do substrato de base como ao segundo lado do substrato de base. A camada de revestimento compreende partíclas sílica e um aglutinante.</p> |
