发明名称 | 一种酸性铜蚀刻液及其制备工艺 | ||
摘要 | 本发明涉及一种酸性铜蚀刻液,其特征在于,所述铜蚀刻液质量百分比组成为:硫酸1%~20%、过硫酸盐5%~25%、表面活性剂0.05~0.5wt%和余量的纯水;所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。所述工艺包括如下步骤:第一步:将硫酸、过硫酸盐、表面活性剂和纯水四种原料按权利要求1所述配比称重配置;第二步:将硫酸加入配料罐中,搅拌下加入过硫酸盐,将其搅拌均匀;第三步:往混匀的硫酸和过硫酸盐混合溶液中加入非离子表面活性剂,然后加入纯水,充分搅拌;第四步:将混合物通入过滤器进行过滤,得到所述铜蚀刻液。本发明蚀刻液蚀刻速度快,蚀刻均匀,不影响其他金属层,且药液对环境污染小。 | ||
申请公布号 | CN102925894A | 申请公布日期 | 2013.02.13 |
申请号 | CN201210379057.8 | 申请日期 | 2012.10.09 |
申请人 | 江阴润玛电子材料股份有限公司 | 发明人 | 戈士勇 |
分类号 | C23F1/18(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
代理机构 | 江阴市同盛专利事务所 32210 | 代理人 | 唐纫兰;曾丹 |
主权项 | 一种酸性铜蚀刻液,其特征在于,所述铜蚀刻液质量百分比组成为:硫酸1%~20%、过硫酸盐5%~25%、表面活性剂0.05~0.5wt %和余量的纯水;所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。 | ||
地址 | 214423 江苏省无锡市江阴市周庄镇长青路2号 |