发明名称 一种酸性铜蚀刻液及其制备工艺
摘要 本发明涉及一种酸性铜蚀刻液,其特征在于,所述铜蚀刻液质量百分比组成为:硫酸1%~20%、过硫酸盐5%~25%、表面活性剂0.05~0.5wt%和余量的纯水;所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。所述工艺包括如下步骤:第一步:将硫酸、过硫酸盐、表面活性剂和纯水四种原料按权利要求1所述配比称重配置;第二步:将硫酸加入配料罐中,搅拌下加入过硫酸盐,将其搅拌均匀;第三步:往混匀的硫酸和过硫酸盐混合溶液中加入非离子表面活性剂,然后加入纯水,充分搅拌;第四步:将混合物通入过滤器进行过滤,得到所述铜蚀刻液。本发明蚀刻液蚀刻速度快,蚀刻均匀,不影响其他金属层,且药液对环境污染小。
申请公布号 CN102925894A 申请公布日期 2013.02.13
申请号 CN201210379057.8 申请日期 2012.10.09
申请人 江阴润玛电子材料股份有限公司 发明人 戈士勇
分类号 C23F1/18(2006.01)I 主分类号 C23F1/18(2006.01)I
代理机构 江阴市同盛专利事务所 32210 代理人 唐纫兰;曾丹
主权项 一种酸性铜蚀刻液,其特征在于,所述铜蚀刻液质量百分比组成为:硫酸1%~20%、过硫酸盐5%~25%、表面活性剂0.05~0.5wt %和余量的纯水;所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。
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