发明名称 |
一种V结构模仁及其制作方法、导光板的制作方法 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种V结构模仁及其制作方法、导光板的制作方法,涉及显示器的制造领域,用以实现根据需要制作不同角度的V结构模仁,并利用V结构模仁制作导光板,降低加工成本,缩短加工周期的目的。所述方法包括:在底板上形成感光胶;在所述感光胶上设置遮光层,所述遮光层包括多个遮光条,所述遮光条的宽度与预先设计的V结构的宽度相等,且所述遮光条的中心轴间的间距与相应的所述V结构的中心轴间的间距相等;根据所述V结构的角度,利用曝光机对所述感光胶进行曝光;对所述感光胶进行显影处理,得到V结构模仁。本发明适用于显示器的生成与制造领域。 |
申请公布号 |
CN102929098A |
申请公布日期 |
2013.02.13 |
申请号 |
CN201210276114.X |
申请日期 |
2012.08.03 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;苏州京东方茶谷电子有限公司 |
发明人 |
龙登武 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;G02B6/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种V结构模仁的制作方法,其特征在于,包括:在底板上形成感光胶;在所述感光胶上设置遮光层,所述遮光层包括多个遮光条,所述遮光条的宽度与预先设计的V结构的宽度相等,且所述遮光条的中心轴间的间距与相应的所述V结构的中心轴间的间距相等;根据所述V结构的角度,利用曝光机对所述感光胶进行曝光;对所述感光胶进行显影处理,得到V结构模仁。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |