发明名称 | 一种基于SOI材料的具有自整流效应的阻变存储器 | ||
摘要 | 本发明公开了一种基于SOI材料的具有自整流效应的阻变存储器。所述阻变存储器由SOI基片、沉积于所述SOI基片上的底电极、沉积于所述底电极上的阻变层和沉积于所述阻变层上的上电极组成;所述底电极为条状的p型硅电极;所述阻变层为n型氧化锌薄膜;所述上电极为条状的铝电极或钛电极;所述底电极和所述上电极相互垂直设置。本发明所提供的阻变存储器直接在商业SOI材料上进行刻蚀和沉积,底电极选用的是低电阻的p型硅,与传统CMOS工艺的兼容性非常高,能够在不改变现有工艺条件的情况下开发出高密度的非易失性存储器,具有成本低等特点。 | ||
申请公布号 | CN102214674B | 申请公布日期 | 2013.02.13 |
申请号 | CN201110155407.8 | 申请日期 | 2011.06.10 |
申请人 | 清华大学 | 发明人 | 潘峰;陈超;曾飞;罗景庭;唐光盛 |
分类号 | H01L27/24(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/24(2006.01)I |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人 | 关畅 |
主权项 | 一种阻变存储器,其特征在于:所述阻变存储器由SOI基片、沉积于所述SOI基片上的底电极、沉积于所述底电极上的阻变层和沉积于所述阻变层上的上电极组成;所述底电极为条状的p型硅电极;所述阻变层为n型氧化锌薄膜;所述上电极为条状的铝电极或钛电极;所述底电极和所述上电极相互垂直设置。 | ||
地址 | 100084 北京市海淀区清华园1号 |