一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法

摘要

本发明涉及一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法，其包括以下步骤：1)加工具有图案的掩模板，并加工与掩模板外形尺寸相对应的底板；2)清洗掩模板、底板和衬底材料，并将衬底材料固定在掩模板和底板之间，使衬底材料表面只暴露出与掩模板上的图案对应的表面；3)将固定好的衬底材料置于气相沉积系统的真空室中，在衬底材料上沉积与掩模板上图案对应的硬质薄膜；4)将沉积有图案的硬质薄膜的衬底材料，继续在气相沉积系统的真空条件下自然冷却至室温后取出，即完成图案化硬质薄膜的制备。本发明图案化硬质薄膜的残余应力得到了较好的释放，提高了硬质薄膜的结合力和耐磨损性能。本发明可广泛用于工业涂层和刀具涂层行业中。

主权项

一种降低硬质薄膜应力的薄膜制备方法，其包括以下步骤：1)加工具有图案的掩模板，并加工与掩模板外形尺寸相对应的底板；2)清洗掩模板、底板和衬底材料，并将衬底材料固定在掩模板和底板之间，使衬底材料表面只暴露出与掩模板上的图案对应的表面；3)将固定好的衬底材料置于气相沉积系统的真空室中，在衬底材料上沉积与掩模板上图案对应的硬质薄膜；4)将沉积有图案的硬质薄膜的衬底材料，继续在气相沉积系统的真空条件下自然冷却至室温后取出，即完成图案硬质薄膜的制备。