发明名称 |
制作光学元件成形模子的方法以及光学元件成形模子 |
摘要 |
提供了一种制作光学元件成形模子的方法,该方法包括通过FCVA工艺在用于光学元件成形模子的模子基体10上形成ta-C膜12,在其中模子基体10被保持在浮置电位,电压被施加到用于经由绝缘部件(3a,3b)保持模子基体的模子基体保持部件2,并且在模子基体中内部设置的磁体4形成用于在模子基体的转印表面的法线方向上施加磁力以使得遵循由过滤线圈22施加的磁力的磁场,由此使膜质量均质化。 |
申请公布号 |
CN102933512A |
申请公布日期 |
2013.02.13 |
申请号 |
CN201180026372.6 |
申请日期 |
2011.05.25 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
久保裕之;桥本茂;平林敬二;寺西康治;大胁悠介 |
分类号 |
C03B11/08(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I |
主分类号 |
C03B11/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
欧阳帆 |
主权项 |
一种制作光学元件成形模子的方法,所述光学元件成形模子用于使光学元件压制成形,所述方法包括如下步骤:在将用于光学元件成形模子的模子基体保持在浮置电位时在成膜室中布置模子基体;在相对于模子基体的成膜表面的法线方向上形成磁场;以及在将电压施加到用于保持模子基体的保持部件时,通过使用过滤阴极真空电弧工艺在模子基体的成膜表面上形成四面体非晶碳膜。 |
地址 |
日本东京 |